본문 바로가기
반응형

Semiconductor Manufacturing Tech/Photolithography5

[Photolithography (3.2)/S.M.T.] Spin Coat (스핀코팅)/ PR Coating 2) Spin coat (=PR(Photoresist) Coating, 스핀 코팅) 이번 장에서 중요한 것: Thickness, Uniformity Spin coat 는 PR Coat, PR Coating, Spin coating이라고도 불리며 Phtolithography의 두번째 공정 단계이다. PR(Photoresist)를 Wafer위에 도포하는 단계라고 생각하면된다. Spin이라는 말대로 회전하는 판인 Spin coat위에 wafer를 올리고 돌린다. 이때 Wafer가 떨어지지말라고 Wafer를 올려두는 기계의 표면에 작은 진공 구멍을 가진 평평한 금속인 Vaccum Chuck(진공 척)위에 Mount(탑재)되어 진공으로 Wafer를 잡고 있어서 떨어질 염려는 하지 않아도 된다. (아래 사진봐) 처.. 2020. 3. 27.
[Photolithography (3.1)/S.M.T.] Wafer Prime / Vapor Prime 1) Vapor prime (=Wafer prime, 증기 및 웨이퍼 도포단계) Vapor prime 또는 Wafer prime 단계라고 불리우며 Phtolithography의 첫번째 공정 단계이다. *prime (뜻: to cover the surface of wood with a special paint before the main paint is put on, https://dictionary.cambridge.org/ko/%EC%82%AC%EC%A0%84/%EC%98%81%EC%96%B4/priming)은 상황에 맞추어 도포라고 하는 것이 맞다. PRIMING | Cambridge English Dictionary에서의 의미 priming 의미, 정의, priming의 정의: 1. present .. 2020. 3. 27.
[Photolithography (3)/S.M.T.] 포토리소그래피의 8가지 기본 단계 3. Photolithography의 8가지 기본 단계 사실 Photolithography는 Process latitude에 관여되는 수많은 공정 단계가 존재한다. 헌데 이러한 공정을 총 8가지의 단계로 기본적으로 나눌 수 있다. 1. Vapor prime (=Wafer prime(웨이퍼 준비)증기 도포) 2. Spin coat (=PR(Photoresist) Coating, 스핀 코팅) 3. Soft bake (가볍게 굽기) 4. Alignment and exposure (정렬과 노출) 5. Post - exposure bake (PEB) (노출 후 굽기) 6. Develop (현상) 7. Hard bake (강한 굽기) 8. Develop inspect (현상 후 점검) -1) Vapor prime .. 2020. 3. 27.
[Photolithography (2)/S.M.T.] Positive / Negative Lithography 2. Photolithography Processes 포토 공정에는 두가지의 기본 공정 유형이 있다. -Positive Photolithography: Wafer 표면에 Mask pattern과 동일한 패턴을 인쇄 -Nagative Photolithography: Wafer 표면에 Mask pattern과 정반대의 패턴을 인쇄 이 두가지 공정 유형의 차이점은 'Photoresist'라는 물질의 차이다. 즉 재료 차이로 공정의 유형이 나뉘는 것이다. Photoresist는 뒤에서 다루겠지만 간단히 말하면 '감광액' 및 '감광액'이라고도 한다. Photoresist는 빛에 민감하여 빛을 받으면 변화가 일어난다. 또한 수용액이 아니라 고분자 액체(폴리머)이다. (※2019 일본의 일방적인 무역전쟁(시비) 때,.. 2020. 3. 27.
[Photolithography (1) /S.M.T.] 포토리소그래피 용어 정리 포토리소그래피 공정은(이하 포토 공정) 사용자가 원하는 마스크(Mask)상에 설계된 패턴을 웨이퍼(Wafer)상에 구현하는 과정을 뜻한다. Photolithography 의 사전적 의미. Photo + Litho + Graphy 로 나눌 수있으며 그리스 어로 기원을 나누어 보면 Linght + Stone + Writing 이다. 어원을 직독직해하면 '빛을 이용하여 돌에 글을 쓴다.'이다. 그럼 포토리소그래피 공정이라 함은 빛을 이용하여 Wafer에 원하는 Pattern을 새긴다. 라고 해석 할 수 있다. 실제 포토 공정의 본질은 뒤이어 오는 공정인 이온 주입과 식각 공정에 주로 사용되며 Wafer위에 임시 회로구조를 인쇄하는 것이다. 그리고 포토공정은 빛을 이용해 세밀히 작업을 할 수 있어서 반도체 Ch.. 2020. 3. 26.
반응형