반응형 반도체2 [Analysis/Semiconductor] F.I.B. (Focused Ion Beam) 1. F.I.B. (Focused Ion Beam) 접속 이온빔 현대의 반도체 기술은 나노의 단위로 제작되므로 내가 어떻게 만들었는지 눈으로는 쉽게 구조가 보이지 않는다. 현미경을 써도 나노단위는 보기 힘들다. 그러므로 나온 것이 FIB이다. Ga(갈륨)이온을 가속하여 빔형태로 써서 반도체 상 나노 단위의 원하는 위치에 식각, 증착, 관찰을 수행할 수 있다. 보통 반도체 공부를 하면 SEM(scanning electron microscope)을 배우게 되는데 두개의 차이점은 아래와 같다. FIB - 이온을 빔으로 사용.(전자를 빔으로도 쓸 수도 있음) SEM - 전자를 빔으로 사용. 즉 '이온의 크기 < 전자의 크기' 이므로 FIB가 더 작은것을 볼 수 있다는 결론이 나온다. 2. F.I.B. (Focu.. 2020. 3. 29. [Photolithography (1) /S.M.T.] 포토리소그래피 용어 정리 포토리소그래피 공정은(이하 포토 공정) 사용자가 원하는 마스크(Mask)상에 설계된 패턴을 웨이퍼(Wafer)상에 구현하는 과정을 뜻한다. Photolithography 의 사전적 의미. Photo + Litho + Graphy 로 나눌 수있으며 그리스 어로 기원을 나누어 보면 Linght + Stone + Writing 이다. 어원을 직독직해하면 '빛을 이용하여 돌에 글을 쓴다.'이다. 그럼 포토리소그래피 공정이라 함은 빛을 이용하여 Wafer에 원하는 Pattern을 새긴다. 라고 해석 할 수 있다. 실제 포토 공정의 본질은 뒤이어 오는 공정인 이온 주입과 식각 공정에 주로 사용되며 Wafer위에 임시 회로구조를 인쇄하는 것이다. 그리고 포토공정은 빛을 이용해 세밀히 작업을 할 수 있어서 반도체 Ch.. 2020. 3. 26. 이전 1 다음 반응형
