반응형 포토공정2 [Photolithography (2)/S.M.T.] Positive / Negative Lithography 2. Photolithography Processes 포토 공정에는 두가지의 기본 공정 유형이 있다. -Positive Photolithography: Wafer 표면에 Mask pattern과 동일한 패턴을 인쇄 -Nagative Photolithography: Wafer 표면에 Mask pattern과 정반대의 패턴을 인쇄 이 두가지 공정 유형의 차이점은 'Photoresist'라는 물질의 차이다. 즉 재료 차이로 공정의 유형이 나뉘는 것이다. Photoresist는 뒤에서 다루겠지만 간단히 말하면 '감광액' 및 '감광액'이라고도 한다. Photoresist는 빛에 민감하여 빛을 받으면 변화가 일어난다. 또한 수용액이 아니라 고분자 액체(폴리머)이다. (※2019 일본의 일방적인 무역전쟁(시비) 때,.. 2020. 3. 27. [Photolithography (1) /S.M.T.] 포토리소그래피 용어 정리 포토리소그래피 공정은(이하 포토 공정) 사용자가 원하는 마스크(Mask)상에 설계된 패턴을 웨이퍼(Wafer)상에 구현하는 과정을 뜻한다. Photolithography 의 사전적 의미. Photo + Litho + Graphy 로 나눌 수있으며 그리스 어로 기원을 나누어 보면 Linght + Stone + Writing 이다. 어원을 직독직해하면 '빛을 이용하여 돌에 글을 쓴다.'이다. 그럼 포토리소그래피 공정이라 함은 빛을 이용하여 Wafer에 원하는 Pattern을 새긴다. 라고 해석 할 수 있다. 실제 포토 공정의 본질은 뒤이어 오는 공정인 이온 주입과 식각 공정에 주로 사용되며 Wafer위에 임시 회로구조를 인쇄하는 것이다. 그리고 포토공정은 빛을 이용해 세밀히 작업을 할 수 있어서 반도체 Ch.. 2020. 3. 26. 이전 1 다음 반응형
