반응형 Semiconductor Manufacturing Tech/ETCH2 [Etch (2)/S.M.T.] Etch Parameters(식각파라미터) 2. Etch Parameters Etch를 할 때 그냥 막 하면 좋겠지만 사실 다양한 값들을 설정해주어야 하고 특별한 조건들을 만족시켜주어야한다. 아래는 일반적으로 사람들이 중요하다고 생각하는 9개의 Etch Parameter을 소개하겠다. Etch Parameters - Etch rate [식각률: 얼마만큼 빨리 Etch가 되었는가? (분당깍인 두께)] - Etch profile [식각 형상: 얼마만큼 Etch가 직각으로 잘 되었는가?] - Etch bias [식각 바이어스: 좌우로 흔들리지 않았는가?] - Selecitivity [선택도: 막아놓은 부분은 Etch되지말고 열어 놓은 부분은 잘 Etch 되었는가?] - Uniformity [균일성: 최근들어 중요해졌다. 옛날에는 균일성이 이미 좋았으나.. 2020. 3. 27. [Etch (1)/S.M.T.] Etch Introduction (식각 공정이란?) Etch 공정은 Etching 공정이라고도하며 식각 공정이라고도 한다. 사용자가 원하는 모양을 가지게 하기 위하여 선택적으로 물질을 제거하는 공정이 식각 공정이라 생각해도 좋다. 즉 쉽게 말하면 Silicon(실리콘)이나 Substrate(기판)위에 있는 물질을 깍아내는 공정이라고 생각해도 된다. 특히 Etch 공정은 앞전에 정리된 Photolithograpy 공정보다 더 세심해야되는 이유가 있는데 그 이유는 한번 Etching이 일어나면 다시 되돌릴 수 없는 결과를 만들기 때문이다. 그러므로 잘못 Etching된 제품은 전량 폐기하게 되므로 회사의 손실과 중요하게 직결되어있다고 판단하면 좋다. 학습목표 1. Etch Parameters(식각 변수) 중 중요한 9개의 Parameters에 대하여 설명할 .. 2020. 3. 27. 이전 1 다음 반응형
